Fotolitografia
A fotolitografia é um processo de fabricação essencial utilizado na produção de circuitos integrados (CIs). O principal objetivo é gravar padrões extremamente precisos sobre pastilhas de silício, que servem como base para os circuitos.
Nesse processo, uma camada de material sensível à luz, chamada de fotorresiste, é aplicada sobre a superfície da pastilha de silício. Em seguida, uma máscara contendo o padrão do circuito a ser impresso é posicionada sobre o fotorresiste. A pastilha é então exposta a uma fonte de luz ultravioleta, que altera as propriedades químicas do fotorresiste nas áreas expostas.
Após a exposição, o fotorresiste é tratado com um produto químico revelador, removendo as áreas expostas ou não expostas (dependendo do tipo de fotorresiste, que pode ser positivo ou negativo). O padrão resultante serve como guia para processos subsequentes, como gravação química ou deposição de materiais condutores, que formam as camadas dos circuitos eletrônicos.
A precisão da fotolitografia é fundamental, pois define a densidade e a complexidade dos circuitos integrados. Esse processo permite a fabricação de componentes extremamente pequenos e eficientes, como transistores e resistores, que são integrados em dispositivos modernos, desde sistemas aviônicos até computadores.
